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大气压等离子体沉积棉织物类氧化硅薄膜
大气压等离子体
棉织物
薄膜
低温等离子体处理对PET膜性能的影响
低温等离子体
PET膜
X射线光电子能谱(XPS)
表面自由能
HDP介质淀积引起的等离子充电损伤机制研究
等离子体充电损伤
高密度等离子体化学气相淀积(HDP CVD)
栅氧化膜
光电导
工艺条件对氧化硅纳米结构的影响
氧化硅
纳米线
纳米棒
化学气相沉积
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 等离子淀积工艺对氮氧化硅混合膜组份的影响
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 等离子淀积 氮氧化硅 薄膜
年,卷(期) 1990,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 29-34
页数 6页 分类号 TN304.24
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研究主题发展历程
节点文献
等离子淀积
氮氧化硅
薄膜
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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