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聚焦离子束辅助淀积的淀积速率模型
淀积速率
模型
聚焦离子束
用于双离子束注入器的杂质消除系统
注入器
双离子束
杂质
离子束增强沉积技术
离子束增强
铜膜
离子源
脉冲离子束流聚焦装置的研制
脉冲离子束流
限束
透镜
聚焦
内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 双离子束溅射淀积DLC膜的导电行为
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 离子束溅射 淀积 DLC膜 导电
年,卷(期) bmkxyjs_1990,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 45-51
页数 7页 分类号 TN304.18
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1990(0)
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研究主题发展历程
节点文献
离子束溅射
淀积
DLC膜
导电
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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