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文献信息
| 篇名 | 受激等离子体子对微波等离子体CND形成的氧化硅膜的影响 | ||
| 来源期刊 | 国外核聚变与等离子体应用 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 氧化硅 薄膜 沉积 等离子体应用 | ||
| 年，卷（期） | 1990,（5） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 57-64 | |
| 页数 | 8页 | 分类号 | O484.1 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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氧化硅
薄膜
沉积
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期刊影响力
国外核聚变
主办单位：
四川省核学会
出版周期：
双月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
四川省成都市432信箱
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
728
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