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MOCVD—InP外延层的特性研究
MOCVD—InP外延层的特性研究
作者:
舒占永
蒋红
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外延层
INP
化学气相淀积
MOCVD
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篇名
MOCVD—InP外延层的特性研究
来源期刊
薄膜科学与技术
学科
工学
关键词
外延层
INP
化学气相淀积
MOCVD
年,卷(期)
1990,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
19-26
页数
8页
分类号
TN304.054
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期刊影响力
薄膜科学与技术
主办单位:
南京电子器件研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
南京1601信箱43分箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
327
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