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α—Fe2O3气敏半导体薄膜的PCVD过程
α—Fe2O3气敏半导体薄膜的PCVD过程
作者:
徐甲强
沈瑜生
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Α-FE2O3
半导体
薄膜
摘要:
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文献信息
篇名
α—Fe2O3气敏半导体薄膜的PCVD过程
来源期刊
薄膜科学与技术
学科
工学
关键词
Α-FE2O3
半导体
薄膜
年,卷(期)
1991,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
16-21
页数
6页
分类号
TN304.055
字数
语种
DOI
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1991(0)
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研究主题发展历程
节点文献
Α-FE2O3
半导体
薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
主办单位:
南京电子器件研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
南京1601信箱43分箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
327
总下载数(次)
1
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