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用同步辐射全层光刻制造超微细MOSIC
用同步辐射全层光刻制造超微细MOSIC
作者:
吴秀丽
曹健林
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同步辐射
光刻
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摘要:
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文献信息
篇名
用同步辐射全层光刻制造超微细MOSIC
来源期刊
光机情报
学科
工学
关键词
同步辐射
光刻
微细加工
MOS
IC
年,卷(期)
1991,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
33-38
页数
6页
分类号
TN305.7
字数
语种
中文
DOI
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引文网络
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光刻
微细加工
MOS
IC
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光机情报
主办单位:
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
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出版地:
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