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复合钝化膜刻蚀工艺的探讨
钝化膜
等离子
刻蚀工艺
温度控制
聚合物薄膜的大气压微等离子体射流无掩膜刻蚀工艺
微等离子体
聚合物薄膜
工艺参数
刻蚀工艺
基于沟槽型功率器件的三层掩膜板工艺设计
功率器件
沟槽型功率器件
掩膜板
工艺仿真
紫外压印光刻中阻蚀胶残膜刻蚀工艺
紫外压印
阻蚀胶
残膜
反应离子刻蚀
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 同步辐射刻蚀用的掩膜工艺技术
来源期刊 光机情报 学科 工学
关键词 MOSIC 同步辐射 刻蚀 掩膜 工艺
年,卷(期) 1991,(7) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 23-27
页数 5页 分类号 TN405.7
字数 语种 中文
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1991(0)
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研究主题发展历程
节点文献
MOSIC
同步辐射
刻蚀
掩膜
工艺
研究起点
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期刊影响力
光机情报
月刊
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370
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