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同步辐射刻蚀用的掩膜工艺技术
同步辐射刻蚀用的掩膜工艺技术
作者:
出口公吉
吴秀丽
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MOSIC
同步辐射
刻蚀
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工艺
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篇名
同步辐射刻蚀用的掩膜工艺技术
来源期刊
光机情报
学科
工学
关键词
MOSIC
同步辐射
刻蚀
掩膜
工艺
年,卷(期)
1991,(7)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
23-27
页数
5页
分类号
TN405.7
字数
语种
中文
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MOSIC
同步辐射
刻蚀
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