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关于半导体表面膜层厚度的测量
关于半导体表面膜层厚度的测量
作者:
欧可文
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
半导体
表面膜法
测量
摘要:
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文献信息
篇名
关于半导体表面膜层厚度的测量
来源期刊
永光半导体
学科
工学
关键词
半导体
表面膜法
测量
年,卷(期)
1992,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
50-60
页数
11页
分类号
TN304.055
字数
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DOI
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二级引证文献(0)
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半导体
表面膜法
测量
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研究来源
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
永光半导体
主办单位:
永光电工厂技术情报室
出版周期:
年刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
贵州凯里214信箱永光电工厂情报科
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
49
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1
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