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文献信息
| 篇名 | 硅上薄SiO2层厚度的确定 | ||
| 来源期刊 | 山东半导体技术 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 硅 二氧化硅 氧化层 测量 | ||
| 年，卷（期） | sdbdtjs,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 23-30 | |
| 页数 | 8页 | 分类号 | TN304.120 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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