一种新型的I线和DUV线步进机的设计思路

• 作者: Unge.,R
• 来源期刊: LSI制造与测试
• 学科: 工学
• 关键词: I线 DUV线 步进机 微细曝光设备 设计
• 年，卷（期）: lsizzycs_1995,（2）
• 页码范围: 27-37
• 页数: 11页
• 分类号: TN305.7

摘要

本文讨论了新生产线上一种步进机，它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用ｉ线（３６５ｎｍ）和深紫外（ＤＵＶ２４８ｎｍ）波长，具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点，适用的工作焦深，ｉ线机实用分辨率可达０．５μｍ，而ＤＵＶ机实用分辨率为０．３５μｍ。结合这些设备的设计，特别是从对准区域、调焦、ＩＮＳＩＴＵ计量、自动校准和诊断效用方面，简述了步进机的曝光技术。该设备新添的特点，满足