真空开关管CuCr触头微粒的产生

• 作者: 冉隆科
• 来源期刊: 旭光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 真空开关管 真空断路器 触头 实验 微粒
• 年，卷（期）: 1995,（3）
• 页码范围: 41-45
• 页数: 5页
• 分类号: TM561.206

摘要

使用一台电子扫描显微镜（ＳＥＭ）和一台激光显微镜，我们观察到在机械加工过的铜铬触头表面上的微粉和粒子，这些微粉和粒子认为是由于机械加工而形成的切削瘤。在正常电流的开断及关合工作状态下，机械加工的触头表面每１ｃｍ＾２产生（５．７－８．７）×１０＾３个微粒。一般微粒大小为几十个μｍ。那些大于１０μｍ的微粒常常能看见。这意味着经机械加工的铜铬触头使用在真空断路器上时，无论如何必须进行表面处理。电流老炼是