a—Si／Mo多层膜的制备及其结构研究

• 作者: 余萍 刘焕林
• 来源期刊: 薄膜科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 非晶态半导体 多层膜 薄膜生长 结构
• 年，卷（期）: 1995,（1）
• 页码范围: 32-38
• 页数: 7页
• 分类号: TN304.8

摘要

本文报导了利用射频溅射技术成功地获得具有一维周期结构的ａ－Ｓｉ／Ｍｏ多层膜。分析讨论了可控厚度多层膜的生长条件；利用Ｘ－ｒａｙ衍射、ＳＩＭＳ、ＳＥＭ、Ｒａｍａｎ等分析手段，对多层膜进行了结构分析；同时还研究了膜的热学性能，结果表明这种多层膜有很好的热稳定性。