使用圆柱形旋转磁控管的共溅射和顺序共溅射

• 作者: Belki.,A 吴鼐
• 来源期刊: 国外核聚变与等离子体应用
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控管 共溅射 顺序共溅射 薄膜 制备
• 年，卷（期）: 1995,（1）
• 页码范围: 60-69
• 页数: 10页
• 分类号: TN123

摘要

共溅射允许沉积多种混合材料，使用一套双圆柱形旋转磁控管设备，现在则可将共溅射用于大面积在线沉积。将圆柱形磁控管设备的磁体倾斜，可使靶的交叉污染增加，从而改善靶的表面并使薄膜的成分沿深度的分布更均匀。本文评述了由不同元素对的靶制备的几个混合氧化物和氮化物沉积层的结果。