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二氧化硅
牙膏
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 用PECVD沉积二氧化硅
来源期刊 等离子体应用技术快报 学科 工学
关键词 PECVD 二氧化硅 薄膜 半导体器件
年,卷(期) 1995,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 5-6
页数 2页 分类号 TN304.055
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研究主题发展历程
节点文献
PECVD
二氧化硅
薄膜
半导体器件
研究起点
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期刊影响力
等离子体应用技术快报
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四川省成都市432信箱
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864
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