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温度和压力对远距PECVDSiO2结构的影响
温度和压力对远距PECVDSiO2结构的影响
作者:
沙石
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温度
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温度和压力对远距PECVDSiO2结构的影响
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等离子体应用技术快报
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工学
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温度
压力
PECVD
二氮化硅
薄膜
年,卷(期)
1995,(3)
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13-14
页数
2页
分类号
TN304.055
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核工业西南物理研究院
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月刊
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