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摘要:
用溅射的方法来制备ITO膜已应用于平板显示技术,特别是高速磁控溅射技术的出现,又使ITO膜实现大量生产成为可能。本文详细论述了ITO膜生产线的设计要点,总体方案及其技术性能,并分析了各种工艺参数对ITO膜的透光率、面电阻等主要技术指标的影响。
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文献信息
篇名 ITO膜生产技术的新进展
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 ITO薄膜 薄膜 磁控溅射
年,卷(期) 1995,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 272
页数 1页 分类号 TB43
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研究主题发展历程
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ITO薄膜
薄膜
磁控溅射
研究起点
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期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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