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适合于大规模等离子体源离子植入工艺的高压脉冲技术…
适合于大规模等离子体源离子植入工艺的高压脉冲技术…
作者:
Reas.,WA
甘德昌
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
PSII
高压脉冲
等离子体源
离子植入
摘要:
许多新的等离子体工艺思想正在由实验室走向工厂。它们要求高压(HV)脉冲电源设备,而这些设备在应用、系统效率和可靠性方面必须是最佳的。虽然没有哪一种高压脉冲技术能适合于所有等离子体工艺,但各式各样的高压脉冲发生器可向制造商提供较大的变通性和经济性。为现有雷达和粒子加速器调制器电源系统发展起来的技术可用于研制一台现代大规模等离子体源离子植入(PSII)系统。高压脉冲电路大致包含两类系统,直接产生电压的
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篇名
适合于大规模等离子体源离子植入工艺的高压脉冲技术…
来源期刊
国外核聚变与等离子体应用
学科
工学
关键词
PSII
高压脉冲
等离子体源
离子植入
年,卷(期)
1995,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
68-74
页数
7页
分类号
TL629.1
字数
语种
DOI
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引文网络
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1995(0)
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
PSII
高压脉冲
等离子体源
离子植入
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
国外核聚变
主办单位:
四川省核学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
四川省成都市432信箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
728
总下载数(次)
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