用陶瓷靶通过RF磁控溅射制备的热电Pb1—xLaxTi1—x／4O3薄膜

• 作者: Komaki,K 巴兵
• 来源期刊: 国外核聚变与等离子体应用
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 PLT薄膜 热电膜
• 年，卷（期）: gwhjb_1995,（6）
• 页码范围: 62-65
• 页数: 4页
• 分类号: TN213

摘要

用陶瓷靶通过ｒｆ磁控溅射可重复地得到高质量的热电Ｐｂ１－ｘＬａｘＴｉ１－ｘ／４Ｏ３薄膜。已研究了溅射参数对薄膜成分和结构的影响并把它与等离子体的辐射光谱联系起来。通过控制等离子体辐射的Ｐｂ（４０６ｎｍ）和Ｔｉ（３９６ｎｍ）相对强度，使溅射条件最佳化来生产化学计量的和强ｃ轴取向的薄膜。在稳定条件下，利用陶瓷靶提供了等离子体的稳定性和２Ａ／ｓ的高沉积率。ＰＬＴ薄膜表现出好的热电参数，其介电常数为２９０