几种石墨层间化合物溶出伏安行为的研究

• 作者: 陈剑平 陈宗璋
• 来源期刊: 上海硅酸盐
• 学科: 化学
• 关键词: 石墨 层间化合物 溶出伏安 伏安法
• 年，卷（期）: 1995,（4）
• 页码范围: 262-266
• 页数: 5页
• 分类号: O657.14

摘要

本文首次将突出伏安法用于研究Ｈ２ＳＯ４＋ＨＮＯ３；Ｈ２ＳＯ４＋ＫＭｎＯ４；Ｈ２ＳＯ４＋ＨＮＯ３＋ＦｅＣｌ３＋ＫＭｎＯ４等反应介质中制取石墨层间化合物时的溶出伏安行为，发现化学法合成的ＧＩＣ与电化学法合成的ＧＩＣ溶出伏安说线图在反应时间短时相似，随着反应时间增长溶出伏安谱线图则有较大的差异等实验现象。