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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 低温掺磷碳化硅薄膜生长
来源期刊 电子材料快报 学科 工学
关键词 半导体 低温 掺杂 碳化硅薄膜 薄膜生长
年,卷(期) dzclkb_1995,(12) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 7-8
页数 2页 分类号 TN304.24
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研究主题发展历程
节点文献
半导体
低温
掺杂
碳化硅薄膜
薄膜生长
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子材料快报
月刊
天津(南)科研西路20号(天津55信箱)
出版文献量(篇)
576
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