用于直接光起爆的400μm光纤的表面处理和特征

• 作者: Klin.,PE 王凯民
• 来源期刊: 火工情报
• 学科: 工学
• 关键词: 光起爆系统 光纤 表面处理 炸药
• 年，卷（期）: 1996,（1）
• 页码范围: 70-88
• 页数: 19页
• 分类号: TQ564.06

摘要

已进行了确定抛光参数对光纤表面光洁度、平整度、与轴的垂直度及表层底部的特征影响的研究。所进行的研究工作是用４００μｍ芯径、４４０μｍ熔硅包覆外径（可用于直接光起爆系统）的光纤进行的。当将光纤抛光到最高水平的表面光洁度时，桑迪亚国立实验室的激光输入损耗研究表明光纤的７０％能无表面损失地通过大于５ＷＧ／ｃｍ＾２的光能量密度，并考察了两种光纤沿一共用轴在连续和定位准直度的理想程度。