半导体制造工艺中的静电问题

• 作者: 藤江明雄
• 来源期刊: LSI制造与测试
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体制造 工艺 静电 测量 设计
• 年，卷（期）: 1996,（3）
• 页码范围: 10-14
• 页数: 5页
• 分类号: TN305

摘要

随着半导体器件的微细化设计的进展，我们必须极深刻的地重新认识静电问题，因此。本文在过去半导体制造工艺中的静电问题基础上，结合国内外的文献资料，主要介绍静电问题的所在及其概况。