磁场中真空电弧液滴喷溅分析

• 作者: 王浩 邹积岩
• 来源期刊: 真空电器技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁场 真空电弧镀膜 液滴喷溅
• 年，卷（期）: zkdqjs,（1）
• 页码范围: 2-6
• 页数: 5页
• 分类号: TB43

摘要

分析了在外加磁场作用下，真空电弧镀膜中阴极靶面液池的受力情况，导出了液滴喷溅特性受磁场影响的关系式。结果表明，纵向磁场将使喷溅方向发生偏转，形成一发射角，液池所在位置不同发射角也不同。一维横向磁场将使液池发生偏心喷溅，加剧了液滴的发射；二维横向磁场则可减轻液池的喷溅。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹积岩		14	249	8.0	14.0
2	王浩		1	0	0.0	0.0