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摘要:
介绍了当前世界上体硅和SOI材料及其器件辐射加固技术的发展现状,并介绍了主要的辐射加固CMOS IC的研制现状。
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SOI
槽栅MOS器件
短沟道效应
热载流子效应
一种新型高抗辐照可配置SOI器件技术
可配置SOI
抗辐照
总剂量效应
单粒子效应
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 体硅和SOI材料及器件辐中固技术评述
来源期刊 半导体杂志 学科 工学
关键词 辐射加固 CMOS SOI 体硅 集成电路
年,卷(期) bdtzz,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 20-25
页数 6页 分类号 TN432
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张文肃 1 0 0.0 0.0
2 武筠 1 0 0.0 0.0
传播情况
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节点文献
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1996(1)
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1997(0)
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研究主题发展历程
节点文献
辐射加固
CMOS
SOI
体硅
集成电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体杂志
季刊
1005-3077
12-1134/TN
16开
天津市河西区陈塘庄岩峰路
1976
chi
出版文献量(篇)
478
总下载数(次)
1
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