水稻抛秧田杂草化学防除配套技术

• 作者: 孙福华 郑增金
• 来源期刊: 河北农垦科技
• 学科: 农学
• 关键词: 抛秧田 杂草 消长动态 除草配方
• 年，卷（期）: hbnkkj,（1）
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: S451.21

摘要

水稻抛秧栽培技术打破了传统的耕作方式，而致稻田优势勒标杂草田间消长动态的变化。常规的施药技术已不适应抛秧田的杂草防除。根据试验调查，明确了抛秧田杂草群落组合及主要防除靶标杂草的田间消长规律。以此为依据，提出了用两项抛秧田除草配套措施。筛选出三种高效，广普、安全的除草剂配方。根据水稻苗情，作业速度及杂草发生状态，有针对性的选择相适应的除草剂配方，从而达到高效防治抛秧田杂草的目的。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙福华		5	0	0.0	0.0
2	郑增金		1	0	0.0	0.0