相反电荷取代的卟啉和酞菁化合物分子沉积膜

• 作者: 周庆复 孙轶鹏 张希 李洪武 毛海舫 沈家聪 田宏健 许慧君
• 来源期刊: 中国科学B辑
• 学科: 化学
• 关键词: 分子沉积膜 酞菁 卟啉 紫外-可见吸收光谱
• 年，卷（期）: 1998,（2）
• 页码范围: 172-177
• 页数: 6页
• 分类号: O6
• 字数: 3148字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-9240.1998.02.011

摘要

利用分子沉积技术成功地制备了多种卟啉/卟啉、酞菁/酞菁、卟啉/酞菁化合物的分子沉积膜(MD膜).运用紫外-可见吸收光谱跟踪了MD膜的交替沉积过程,说明这类MD膜具有很好的层状均匀成膜的特点.并且用膜天平(QCM)技术和偏振紫外-可见吸收光谱技术对膜的结构进行了表征.结果表明,卟啉和酞菁大环在MD膜中具有一定的取向,卟啉大环与基片法线的平均取向为38℃,而酞菁大环为32℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张希	吉林大学化学系	15	370	7.0	15.0
2	许慧君	中国科学院感光化学研究所	12	109	6.0	10.0
3	毛海舫	中国科学院有机化学研究所	2	43	2.0	2.0
4	李洪武	中国科学院有机化学研究所	1	6	1.0	1.0
5	孙轶鹏	吉林大学化学系	2	77	2.0	2.0
6	田宏健	中国科学院感光化学研究所	1	6	1.0	1.0
7	周庆复	中国科学院感光化学研究所	4	14	3.0	3.0
8	沈家聪	吉林大学化学系	1	6	1.0	1.0