过滤式阴极电弧沉积类金刚石薄膜工艺的研究

• 作者: 左敦稳 朱纪军
• 来源期刊: 超硬材料与工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 类金刚石薄膜 过滤式 真空电弧沉积
• 年，卷（期）: 1998,（2）
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: O484

摘要

本文研究了过滤式阴极电弧沉积系统的稳弧工艺参数，通过正交试验获得最佳稳弧参数，并且研究了弯管内置挡板对宏观粒子过滤效果的影响，采用喇曼光谱研究了偏压对生成的类金刚石薄膜性能的影响，证明－１００Ｖ偏压下，获得的类金刚石薄膜有最佳的ｓｐ＾３含量，扫描电镜测试表明，在（１１１）硅基片上获得致密的膜，但在高速钢基体上沉膜堆积现象比较严重，不易获得优质类金刚石膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左敦稳	南京航空航天大学机电工程学院	510	3780	26.0	32.0
2	朱纪军	南京航空航天大学机电工程学院	1	0	0.0	0.0