现代托卡马克中原位硼化综述

• 作者: Buzh.,OI 凡夫
• 来源期刊: 国外核聚变与等离子体应用
• 学科: 工学
• 关键词: 硼化 托卡马克 辉光放电 硼-碳薄膜 等离子体
• 年，卷（期）: 1998,（1）
• 页码范围: 7-17
• 页数: 11页
• 分类号: TL631.24

摘要

本文对硼化过程的某些特征，硼－碳薄膜的性质和这些特性对托卡马克放电的影响作了介绍，硼化这里定义了在聚变堆第一壁上ａ－Ｂ／Ｃ：Ｈ薄膜的等离子体化学敢相沉积，由于硼化，氧，碳和重杂质（例如铁，镍和铬）受到抑制，氢再循环减弱，这就大大改善了托卡马克放电的性能，第一壁用硼化及限制器，偏滤器板和射频天线用厚Ｂ４Ｃ涂层的两级复合保护，进一步改善了托卡马克等离子体参数。