反应离化团束沉积技术及其在薄膜制备中的应用

• 作者: 张观明 王琼
• 来源期刊: 半导体杂志
• 学科: 物理学
• 关键词: R-ICBD 离化团束沉积 薄膜 制备
• 年，卷（期）: 1998,（2）
• 页码范围: 43-48
• 页数: 6页
• 分类号: O484

摘要

反应离化团束沉积技术是在离化团束沉积技术基础上加入了反应材料。本文讨论了簇团的产生、离化、加速，成膜的机制，及其在薄膜制备中的应用。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王琼	武汉大学理学院	44	389	10.0	19.0
2	张观明	武汉大学理学院	7	28	3.0	5.0