含铁聚合物薄膜的制备、结构和性能

• 作者: 刘维民 周坤粦 张勇 文晓刚 曹伟民
• 来源期刊: 真空科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 含铁聚合物薄膜 等离子体增强金属有机化合物化学气相沉积 填充系数沉积速率
• 年，卷（期）: 1998,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 106-110
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2557字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.1998.02.003

摘要

采用等离子体增强金属有机化合物化学气相沉积(PEMOCVD)工艺制备含铁聚合物薄膜.考察了偏压、源物加热电压对膜的沉积速率及膜中Fe的填充系数的影响.用IR,XPS,TEM和TED对膜的组成和结构进行了分析,表明薄膜具有Fe团簇镶嵌在聚合物基质中的杂混结构特征.对薄膜的光学、电学及湿敏特性进行了研究,证明膜的填充系数对膜的结构和性能都有很大的影响.该薄膜具有较好的湿敏性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘维民	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放研究实验室	307	5597	38.0	57.0
2	张勇	中国科学院成都有机化学研究所	140	1936	22.0	41.0
3	曹伟民	中国科学院成都有机化学研究所	7	45	3.0	6.0
4	文晓刚	中国科学院成都有机化学研究所	3	31	1.0	3.0
5	周坤粦	中国科学院成都有机化学研究所	1	0	0.0	0.0