ISI/IMs共混型镶嵌荷电膜的研制

• 作者: 孙本惠 李文昌 武冠英 程淑英
• 来源期刊: 膜科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镶嵌荷电膜 嵌段共聚物 共混 膜结构 膜性能
• 年，卷（期）: 1998,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 34-37
• 页数: 4页
• 分类号: TQ028.8|TQ316.344|TQ325.2
• 字数: 2212字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-8924.1998.04.009

摘要

以嵌段共聚物ISI和IMs的共混物为原料,PP微孔膜为基膜制成了复合膜,再经过交联、季胺化和磺化而制成了一种新的共混型镶嵌荷电膜.进一步的研究显示,该膜具有典型的镶嵌荷电膜结构及性能特点,与MsISIMs五嵌段荷电膜具有相似的膜形态与膜结构;电性能也十分相近,膜面电阻分别为350、970 Ω·cm2,电压渗系数分别为8×10-9、6.1×10-9V/Pa.表明可以用ISI/Ms共混物代替五嵌段共聚物MsISIMs来制备镶嵌荷电膜,该制备方法更具实用性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙本惠	北京化工大学材料科学与工程学院	31	378	9.0	19.0
2	武冠英	北京化工大学材料科学与工程学院	31	101	6.0	7.0
3	程淑英	北京化工大学材料科学与工程学院	3	48	3.0	3.0
4	李文昌	北京化工大学材料科学与工程学院	2	10	2.0	2.0