基片预处理对MWPCVD金刚石薄膜的影响

• 作者: 俞世吉 邬钦崇 隋毅峰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 预处理 微波等离子体化学气相沉积 金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 1998,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 313-316
• 页数: 4页
• 分类号: TB7
• 字数: 2230字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.1998.04.014

摘要

利用自行研制的石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜装置,研究了硅基片的不同预处理方式对沉积结果的影响.通过扫描电子显微镜形貌观察和喇曼谱分析表明,基片预处理能提高形核密度;用于预处理的金刚石研磨膏的粒度不同,影响金刚石薄膜沉积时的形核密度、晶形和薄膜的质量;表面划痕对沉积金刚石薄膜的影响具有双重性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邬钦崇	中国科学院等离子体物理研究所	18	105	7.0	9.0
2	俞世吉	中国科学院等离子体物理研究所	15	87	6.0	9.0
3	隋毅峰	中国科学院等离子体物理研究所	6	84	4.0	6.0