CVD金刚石薄膜表面的缺陷研究

• 作者: 周灵平 朱正华 李绍禄 靳九成 颜永红
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石薄膜 缺陷 化学气相沉积 孪晶 表面形貌
• 年，卷（期）: 1998,（2）
• 页码范围: 126-131
• 页数: 6页
• 分类号: O7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.1998.02.005

摘要

用SEM方法观察分析了CVD金刚石薄膜表面的缺陷形貌和结构,直观的两种缺陷为孪晶和孔洞.孪晶反映了晶粒的不完整性,它的产生取决于气相中活性分子的浓度与生长表面活性位数目的比值,孪晶比率随碳源浓度升高和衬底温度的降低而增大;孔洞反映了膜的不致密性,其产生与膜生长速率和衬底表面初始成核密度切相关,孔洞密度随碳源浓度升高和衬底温度的升高而增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周灵平	湖南大学材料测试研究中心	48	322	11.0	16.0
2	李绍禄	湖南大学材料测试研究中心	26	292	10.0	16.0
3	颜永红	湖南大学应用物理系	45	423	10.0	20.0
4	靳九成	湖南大学材料测试研究中心	13	73	6.0	8.0
5	朱正华	湖南大学应用物理系	4	14	1.0	3.0