MO/SI和MO/B_4C软X射线多层膜的界面热稳定性研究

• 来源期刊: 真空科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 软X射线 多层膜 热稳定性 界面
• 年，卷（期）: 1998,（6）
• 页码范围: 409-414
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 语种: 中文

摘要

用磁控溅射法制备Mo/Si多层膜(周期为25nm,20层)和Mo/B4C多层膜(周期为3.9nm,121层),并在真空中加热30min,温度为200,400,600,800和1000℃.用小角X射线衍射法和透射电镜研究不同温度下(保温0.5h)加热的样品.实验结果表明,当加热温度达600℃时,Mo/Si多层膜周期被破坏.而Mo/B4C多层膜在800℃加热温度下仍保持周期性层状结构.说明Mo/B4C多层膜不仅周期只有3.9nm,而且具有很好的热稳定性,可以作为较短波长的软X射线多层膜推广应用.