MsISIMs五嵌段镶嵌荷电膜的研制

• 作者: 孙本惠 李文昌 武冠英 程淑英 胡江洪
• 来源期刊: 膜科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镶嵌荷电膜 嵌段共聚物 膜结构 膜性能
• 年，卷（期）: 1998,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 40-42,57
• 页数: 4页
• 分类号: TQ325.2|TQ316.344
• 字数: 1736字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-8924.1998.03.009

摘要

以五嵌段聚合物MsISIMs为原料、PP微孔膜为基膜制备复合膜,再经化学改性而制成一种新型镶嵌荷电膜.测试结果表明,该膜具有精细的微观相分离结构,由阴离子交换区域、中性区域、阳离子交换区域交替排列组成,其阴、阳离子交换区域尺寸约为0.01 μm,十分有利于提高离子迁移效率和分离效果;该膜的膜面电阻为9.7×102 Ω·cm2,电压渗析系数值β=1.4×10-9V/Pa;基膜的接触角θ=98°;而荷电复合膜的θ=69°;表明该膜具备典型的镶嵌荷电膜特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙本惠	北京化工大学材料科学与工程学院	31	378	9.0	19.0
2	武冠英	北京化工大学材料科学与工程学院	31	101	6.0	7.0
3	程淑英	北京化工大学材料科学与工程学院	3	48	3.0	3.0
4	李文昌	北京化工大学材料科学与工程学院	2	10	2.0	2.0
5	胡江洪	北京化工大学材料科学与工程学院	1	3	1.0	1.0