大面积YBCO超导薄膜沉积工艺

• 作者: 刘安生 刘援 古宏伟 李文祥 王小平 王晓华 袁冠森
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 化学
• 关键词: 磁控溅射 大面积YBCO薄膜 沉积
• 年，卷（期）: 1998,（6）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 457-459
• 页数: 3页
• 分类号: O6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.1998.06.015

摘要

用大直径中空柱状阴极直流磁控溅射装置, 在Φ51 mm LaAlO3衬底上制备了YBCO薄膜. 利用X射线衍射、电子通道花样、Φ扫描、扫描电镜对薄膜进行了分析. 在51 mm直径范围内薄膜的零电阻温度Tc为88～90 K.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁冠森		21	218	8.0	14.0
2	王晓华		12	45	4.0	6.0
3	古宏伟		33	206	6.0	13.0
4	刘安生		30	133	6.0	10.0
5	李文祥		3	5	1.0	2.0
6	王小平		11	14	2.0	3.0
7	刘援		5	9	1.0	3.0