NI_(80)FE_(20)/CU多层膜巨磁电阻与微结构的关系

• 来源期刊: 科学通报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多层膜 巨磁电阻 同步辐射 界面粗糙度
• 年，卷（期）: 1998,（14）
• 页码范围: 1485-1488
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射方法 ,在不同溅射气压下制备了 ( 1 1 1 )取向的具有巨磁电阻效应的Ni80 Fe2 0 /Cu金属多层膜 .室温下 ,饱和磁电阻值随着Cu层厚度的增加呈振荡变化 ,在Cu层厚度tCu=1 .0 ,2 .2nm时 ,磁电阻出现 2个峰值 .对应于溅射气压为 0 .2 5Pa的样品 ,磁电阻分别为 1 9.4%和 1 1 .6%,溅射气压为 0 .45Pa的样品 ,磁电阻分别为 1 1 .2%和 1%.采用同步辐射光源在CuK吸收边能量位置 ( 8.989keV)对不同溅射气压下制备的多层膜样品做了X光小角衍射和漫散射 ,标定了界面粗糙度 ,用DAFS (Diffractionanomalousfine structurescat tering)方法研究了NiFe层和Cu层各自的局域结构 .结果表明 :溅射气压对多层膜界面的粗糙度有明显的影响 ,而多层膜界面的粗糙度对磁电阻亦有明显的影响