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摘要:
本文利用扫描电子显微镜和原子力显微镜研究了Si(100)衬底上热灯丝金刚石膜成核过程.在-240V和250mA下,在镜面抛光的Si(100)衬底上金刚石最大成核密度超过了1010cm-2.研究表明,负衬底偏压增强成核主要是发射电子和离子轰击的结果.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 负衬底偏压热灯丝CVD金刚石膜成核的研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 热灯丝CVD 金刚石薄膜 成电核子发射
年,卷(期) 1999,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 65-68
页数 4页 分类号 O484.1
字数 2188字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.1999.01.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王万录 重庆大学应用物理系 109 849 16.0 22.0
2 廖克俊 重庆大学应用物理系 66 513 12.0 19.0
3 方亮 重庆大学应用物理系 62 513 12.0 18.0
4 王必本 重庆大学应用物理系 15 91 5.0 9.0
5 冯斌 重庆大学应用物理系 9 80 5.0 8.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
热灯丝CVD
金刚石薄膜
成电核子发射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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