一种光学薄膜生产的新工艺—等离子体辅助蒸镀

• 作者: 朱耀南 涂建军
• 来源期刊: 光仪技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学薄膜 等离子体辅助蒸镀 生产工艺
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 页码范围: 43-52
• 页数: 10页
• 分类号: TH74

摘要

离子辅助蒸镀可以改善薄膜的性能已为大家所熟知，并适用于多种镀膜材料的多层薄膜，但是由于这种工艺的总离子流较低以及商品离子流的束斑面积较小，故其幅照的基片范围是极其有限的，采用先进的等离子体源（ＡＰＳ），就克服了上述缺陷，其总的离子流可达到５Ａ，均匀辐照基片的范围达到的１ｍ＾２，这种等离子体源通常安装在箱式镀膜机上，ＡＰＳ除了用于等离子体辅助蒸镀外，还可用于化学气相淀积工艺，例如等离子体聚合。本文对用ＡＰＳ进行等离子体辅助蒸镀工艺的原理作了叙述，同时介绍了用这种工艺镀制介质多层膜，如截止滤光片和减反射膜，其波长不发生漂移，对有机基底材料为尤其明显，加固层、减反射膜和憎水层可以三者一起加到了有机基底表面，改善了这种基底性能，而且已进行了规模生产。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱耀南		4	48	1.0	4.0
2	涂建军		2	4	1.0	2.0