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摘要:
采用多靶反应磁控溅射法制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过XRD、TEM和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究.结果表明,反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰;薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加,硬度在Λ=2 nm时达到最大值HK32.93 GPa.
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文献信息
篇名 TiN/AlN纳米多层膜的制备及力学性能
来源期刊 上海交通大学学报 学科 物理学
关键词 纳米多层薄膜 反应溅射 调制结构 显微硬度
年,卷(期) 1999,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 159-161
页数 3页 分类号 O484
字数 2192字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1006-2467.1999.02.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李戈扬 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 109 1036 18.0 25.0
2 施晓蓉 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 4 29 3.0 4.0
3 张流强 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 2 17 2.0 2.0
4 吴亮 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 9 51 4.0 7.0
5 李鹏兴 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 7 46 4.0 6.0
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研究主题发展历程
节点文献
纳米多层薄膜
反应溅射
调制结构
显微硬度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
上海交通大学学报
月刊
1006-2467
31-1466/U
大16开
上海市华山路1954号
4-338
1956
chi
出版文献量(篇)
8303
总下载数(次)
20
总被引数(次)
98140
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