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工艺参数对磁控溅射TiN膜成分影响的研究
工艺参数对磁控溅射TiN膜成分影响的研究
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溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响
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真空科学与技术学报
主办单位：
中国真空学会
出版周期：
月刊
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
开本：
大16开
出版地：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号：
创刊时间：
1981
语种：
chi
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
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