铍中的反应率测量和分析

• 作者: 刘渊 刘荣 杨可 林理彬 江文勉 沈寄安 王玫 蒋励 郭海萍 陈渊
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 铍系统 活化箔 绝对反应率
• 年，卷（期）: 1999,（6）
• 所属期刊栏目: <原子能科学技术>创刊40周年纪念特刊
• 页码范围: 505-509
• 页数: 5页
• 分类号: O571.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.1999.06.004

摘要

用4种不同阈能的活化箔测量和比较了两种铍系统中的绝对活化反应率.铍厚分别为5.3和8.4 cm,活化箔为In、Zn、Al和Cu.实验总误差为5 %～7 %.分析和比较了实验结果与用1-D ANISN 程序和ENDF/B-Ⅵ库数据的计算结果,两者间的偏差均小于7 %.