硅薄膜的热丝法淀积

• 作者: 刘嘉禾 刘莉 吴瑞华 王世昌 罗志强
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝法 非晶硅薄膜 多晶硅薄膜
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 293-297
• 页数: 5页
• 分类号: TG146
• 字数: 3792字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.1999.04.013

摘要

系统地研究了热丝化学气相沉积技术中沉积气压、气体流量、钨丝温度、衬底温度对硅薄膜的结构、生长速率和光电性能的影响.通过优化各工艺参数,成功地制备出光暗电导比达104的非晶硅薄膜和晶粒尺寸达微米量级的晶相良好的多晶硅薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴瑞华		2	20	2.0	2.0
2	罗志强		4	33	2.0	4.0
3	王世昌		2	31	2.0	2.0
4	刘莉		1	18	1.0	1.0
5	刘嘉禾		1	18	1.0	1.0