Ni-Mo电沉积层的组成和结构

• 作者: 左敦稳 王珉 黎向锋
• 来源期刊: 南京航空航天大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: X射线衍射 结构 电解沉积
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 所属期刊栏目: 理论与试验研究
• 页码范围: 300-306
• 分类号: TQ153
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-2615.1999.03.010

摘要

利用X射线光电子谱(XPS)研究了Ni-Mo沉积层的组成元素及其价态和深度分布,用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射技术(XRD)和电子探针显微分析技术(EPMA)研究了电沉积Ni-Mo合金层的形貌、结晶状态、组成元素分布情况.结果表明,电沉积Ni-Mo合金层呈现亮色,表面比较均匀.电沉积层为非晶结构,2θ在40°～50°间有一弥散对称峰.沉积层中的Ni和Mo为零价态,它们的结合能分别为852.8 eV和228.2 eV.沉积层的真实组成(相对原子百分浓度)为:Ni 50.86%,Mo 22.63%,O 26.51%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左敦稳	南京航空航天大学机电工程学院	510	3780	26.0	32.0
2	王珉	南京航空航天大学机电工程学院	205	2631	27.0	40.0
3	黎向锋	南京航空航天大学机电工程学院	109	810	15.0	20.0