硅单晶片镜面吸附物吸附状态的研究

• 作者: 刘玉岭 刘钠 曹阳
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 化学
• 关键词: 硅片 吸附 模型 动力学
• 年，卷（期）: 1999,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 85-89
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 2245字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.1999.02.002

摘要

提出了新抛光硅片镜面吸附物吸附动力学过程和优先吸附数学模型及吸附物吸附状态控制机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭		263	1540	17.0	22.0
2	刘钠		1	36	1.0	1.0
3	曹阳		1	36	1.0	1.0