在超声场的存在下用稀化学蚀刻剂控制二氧化硅蚀刻速率

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篇名	在超声场的存在下用稀化学蚀刻剂控制二氧化硅蚀刻速率
来源期刊	电镀与涂饰	学科	化学
关键词
年，卷（期）	1999,（2）	所属期刊栏目	中国专利信息
研究方向		页码范围	73
页数		分类号	O6
字数		语种	中文
DOI