低折射率SiO2光学增透薄膜的结构控制

• 作者: 吴广明 周东平 张会林 张凤山 张勤远 杨天河 沈军 王珏 范滨 赖珍荃
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 溶胶-凝胶工艺 SiO2 增透薄膜 折射率
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 第六届全国核靶技术交流会论文选
• 页码范围: 332-336
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.1999.04.012

摘要

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机硅源,采用溶胶-凝胶技术,通过调节溶胶的pH和掺入有机添加剂,对SiO2溶胶生长过程进行结构裁剪,控制SiO2纳米颗粒尺度,制备出低折射率(1.15～1.18)SiO2光学增透薄膜.分别采用椭偏仪、分光光度计、扫描和透射电镜等对所制备薄膜的结构、物性进行研究.研究结果表明:改变SiO2溶胶pH可有效抑制颗粒生长,且保持原有的微结构;掺入有机偶联添加剂能使颗粒迅速增大.