光敏聚酰亚胺抗蚀剂的研究

• 作者: 成爱萍 朱普坤 李佐邦 李加深 李芳 杨丽芳 焦晓明 陈建军
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 工学
• 关键词: 光敏聚酰亚胺 光固化机理 热失重 光刻工艺
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 334-337
• 页数: 4页
• 分类号: TQ57
• 字数: 1715字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.1999.04.008

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李芳	河北工业大学化学工程学院	34	319	10.0	17.0
2	朱普坤	河北工业大学化学工程学院	8	57	5.0	7.0
3	李佐邦	河北工业大学化学工程学院	18	257	8.0	15.0
4	焦晓明		2	13	2.0	2.0
5	李加深	河北工业大学化学工程学院	2	11	2.0	2.0
6	杨丽芳	河北工业大学化学工程学院	1	5	1.0	1.0
7	成爱萍		1	5	1.0	1.0
8	陈建军		1	5	1.0	1.0