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航天新技术
发展趋势
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移动无线因特网
二十一世纪染色技术展望(Ⅰ)
染色科学技术
二十一世纪
展望
内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 二十一世纪CMOS工艺发展趋势
来源期刊 电子计算机 学科 工学
关键词 CMOS MOSFET 工艺 隧道效应
年,卷(期) 1999,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 48-61
页数 14页 分类号 TN386.1
字数 语种 中文
DOI
五维指标
传播情况
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引文网络
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节点文献
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1999(0)
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研究主题发展历程
节点文献
CMOS
MOSFET
工艺
隧道效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子计算机
双月刊
CN 32-1582/TP
江苏无锡33信箱811号
出版文献量(篇)
703
总下载数(次)
2
总被引数(次)
0
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