Ar+激光诱导湿刻Si的特性研究

• 作者: 宋登元 李宝通 郭宝增
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光 Si 光化学腐蚀
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 所属期刊栏目: 器件与技术
• 页码范围: 190
• 页数: 1页
• 分类号: TN2
• 字数: 2579字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.1999.03.012

摘要

利用聚焦的Ar+激光束诱导的方法,实现了对浸入HF∶H2O(1∶20)腐蚀液中的N型单晶Si样品的腐蚀,证明这种湿刻过程是一种由光生电子-空穴对引起的电化学腐蚀,腐蚀坑具有侧壁平滑的高斯状结构.腐蚀特性与入射激光功率以及Si掺杂浓度有关.应用激光诱导无电极电化学腐蚀电路模型对实验结果进行了合理的解释.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭宝增	河北大学电子与信息工程系	61	447	11.0	19.0
2	宋登元	河北大学电子与信息工程系	14	194	6.0	13.0
3	李宝通	河北大学电子与信息工程系	1	17	1.0	1.0